熱拡散率/熱伝導率測定装置（LFA）
熱拡散率と熱伝導率は、材料や構成部品の熱伝達特性を表わす最も重要な熱物性パラメーターです。熱拡散率のような熱物性の正確な測定には、迅速で簡単な手法としてフラッシュ法 (LFA)があります。また、従来法では測定できないような薄膜サンプルはサーモリフレクタンス法で測定することができます。
NETZSCHは、全ての材料及び温度範囲をカバーする4モデルの LFAと薄膜測定用の装置を2モデル提供しています。
LFA 717 HyperFlash
熱拡散率/熱伝導率測定装置
【特長】温度範囲-100 ~500 ℃／室温～ 500 ℃の熱拡散率・熱伝導率評価に対応し、最小20μsecのパルス幅で高熱伝導薄膜試料の高温測定にも対応します。真空置換機能を備え、酸化を防ぎながら正確な評価が可能です。最大4検体に対応するオートサンプラーと、直感的な操作を実現するProteus®ソフトウェアを搭載し、研究開発から品質管理まで幅広いニーズに応えます。
【仕様】温度範囲：-100 ~500 ℃／室温～ 500 ℃
パルス幅：10～1500μsec
熱拡散率：0.01mm2/s～2000mm2/s
熱伝導率：0.1 W/(m-K) ～ 3000 W/(m-K)
LFA 717 HyperFlash HT
高温用 熱拡散率/熱伝導率測定装置
【特長】室温～1250℃までの熱拡散率および熱伝導率評価に対応し、最小パルス幅20μsecでの照射により、従来測定が困難であった高熱伝導薄膜試料にも対応可能です。最大18試料までの同時測定が可能なオートサンプラーや、均一な温度分布を実現する独自設計の加熱炉、直感的な操作が可能なProteus®ソフトウェアにより、研究開発から品質管理まで幅広く対応します。
【仕様】温度範囲：室温～1250℃
パルス幅：10～1500μsec
熱拡散率：0.01mm2/s～2000mm2/s
熱伝導率：0.1 W/(m-K) ～ 3000 W/(m-K)
LFA 467 HyperFlash
卓上型キセノンフラッシュアナライザー
【特長】-100～500℃までの熱拡散・熱伝導率評価を可能とし、最少パルス幅20μsecでの照射により、従来では測定不可能であった高熱伝導薄膜サンプルにも容易に可能。特殊ホルダーにより異方性、積層材料、液体、ファイバーなどサンプルを可能にします。
【仕様】温度範囲：RT～500℃／-100℃～500℃
パルス幅：20～1200μsec
サンプルチェンジャー：最大16検体
LFA 467 HT HyperFlash
高温卓上型キセノンフラッシュアナライザー
【特長】RT～1250℃までの熱拡散・熱伝導率評価を可能とし、最少パルス幅20μsecでの照射により、従来では測定不可能であった高熱伝導薄膜サンプルにも高温域の測定に対応します。真空置換にも対応し、サンプルを酸化させずに正確な評価が可能です。
【仕様】温度範囲：RT～1250℃
パルス幅：20～1200μsec
サンプルチェンジャー：最大4検体
到達真空度：10-4mbar
LFA 457 MicroFlash®
卓上型レーザーフラッシュアナライザー
【特長】-125～1100℃までの熱拡散・熱伝導率評価を可能とし、卓上設計でサンプルチェンジャー搭載。最大φ25.4mmの他、特殊ホルダーにより異方性、積層材料、液体、ファイバー、溶融金属・溶融ガラスなどサンプル評価を可能にします。
【仕様】温度範囲：-125～1100℃
パルス幅：0.33msec
サンプルチェンジャー：最大3検体
LFA 427
レーザーフラッシュアナライザー
【特長】-120～2800℃までの熱拡散・熱伝導率評価を可能とし、パルス幅0.3～1.2msecの間で0.1msec毎の選択設定が可能です。最高10-5mbarの高真空に耐えうる構造となっており、高純度ガス雰囲気下において高精度な真空置換と真空下での測定が可能です。
【仕様】温度範囲：-120～2800℃
パルス幅：0.3～1.2msec
真空度：最高10-5mbar
NanoTR/PicoTR
パルス光加熱サーモリフレクタンス法熱拡散率測定装置
【特長】厚さ数10nm～数10μmの金属薄膜や酸化物薄膜の熱物性値を高精度に測定する世界初の薄膜熱物性測定装置です。裏面加熱/表面測温方式（RF方式）と表面加熱/表面測温方式（FF方式）、両方の方式を搭載しており、基板の種類を問わず測定することが可能です。
【仕様】温度範囲：(NanoTR) RT～300℃ / (PicoTR) RT～500℃
測定項目：熱拡散率／熱浸透率／熱伝導率／界面熱抵抗
