NanoTR/PicoTRパルス光加熱サーモリフレクタンス法熱拡散率測定装
ナノメートルオーダーの薄膜の熱物性が測定可能な唯一の装置
ナノ秒サーモリフレクタンス法 薄膜熱物性測定装置
NanoTR
ピコ秒サーモリフレクタンス法 薄膜熱物性測定装置
PicoTR
特徴
- 厚さ数十nm～数十μmの薄膜の熱拡散率や熱浸透率、界面熱抵抗を測定することが可能
- 裏面加熱/表面測温方式(RF方式)と表面加熱/表面測温方式(FF方式)の両方式を搭載しており、基板の種類を問わず測定することが可能
- （独）産業技術総合研究所が国家標準として供給している熱拡散時間標準薄膜(RM1301-a)により検証された、SIトレーサブルな装置
- JIS R 1689 「ファインセラミックス薄膜の熱拡散率の測定方法ーパルス光加熱サーモリフレクタンス法」、JIS R 1690 「ファインセラミックス薄膜と金属薄膜との界面熱抵抗の測定方法」に準拠
測定範囲
原理
パルス光加熱サーモリフレクタンス法は、基板上に形成された薄膜試料をパルスレーザーで瞬間的に加熱し、薄膜内部への熱拡散による表面温度の低下速度あるいは裏面温度の上昇速度を測定することにより、薄膜の膜厚方向の熱拡散率または熱浸透率を求める計測技術です。
レーザーフラッシュ法を超高速化した、パルス光加熱サーモリフレクタンス法によって世界で初めて薄膜の熱拡散率、熱伝導率の測定が可能になりました。
