
サーモリフレクタンスアナライザー(TDTR)
パルス光加熱によるサーモリフレクタンス
産業界の要請に応え、産業技術総合研究所(AIST)は、90年代前半に「「パルス光加熱式サーモリフレクタンス法」を開発しました。AIST技術移転ベンチャー企業のピコサーム株式会社は2008年に設立され、ナノ秒サーモリフレクタンスアナライザー「NanoTR」とピコ秒サーモリフレクタンスアナライザー「PicoTR」を発売し、数10μmからナノメートル領域までの薄膜の熱拡散率を絶対測定が可能となりました。
2020年10月、ピコサーム株式会社はNETZSCH Japan株式会社の子会社としてNETZSCHグループの一員となり、NETZSCH社のLFAシステムとの組み合わせにより、ナノメートルレンジの薄膜からミリメートルレンジのバルク材までのソリューションを提供することができるようになりました


NanoTR
パルス光加熱サーモリフレクタンス法熱拡散率測定装置
【特長】厚さ数10nm~数10μmの金属薄膜や酸化物薄膜の熱物性値を高精度に測定する世界初の薄膜熱物性測定装置です。裏面加熱/表面測温方式(RF方式)と表面加熱/表面測温方式(FF方式)、両方の方式を搭載しており、基板の種類を問わず測定することが可能です。
【仕様】温度範囲:(NanoTR) RT~300℃ / (PicoTR) RT~500℃
測定項目:熱拡散率/熱浸透率/熱伝導率/界面熱抵抗

PicoTR
パルス光加熱サーモリフレクタンス法熱拡散率測定装置
【特長】厚さ数10nm~数10μmの金属薄膜や酸化物薄膜の熱物性値を高精度に測定する世界初の薄膜熱物性測定装置です。裏面加熱/表面測温方式(RF方式)と表面加熱/表面測温方式(FF方式)、両方の方式を搭載しており、基板の種類を問わず測定することが可能です。
【仕様】温度範囲:(NanoTR) RT~300℃ / (PicoTR) RT~500℃
測定項目:熱拡散率/熱浸透率/熱伝導率/界面熱抵抗